26.01.2022
Отечественное оборудование для фотолитографии
Создание отечественного оборудования для микроэлектронных производств – одна из ключевых тенденций развития отрасли. В настоящее время при поддержке Минпромторга РФ реализуется программа, направленная на локализацию в России технологической цепочки производства микросхем с топологическими нормами 350…130 нм с использованием полностью российского оборудования.
В числе первых проектов в данной области – разработка отечественного оборудования для фотолитографии. Данные работы реализуются Зеленоградским нанотехнологическим центром совместно с ведущими разработчиками и производителями микроэлектронного оборудования, в том числе в партнерстве с профильными белорусскими компаниями.
«Наш проект направлен на разработку степпера для переноса на пластину рисунков с элементами размером до 130 нм. Разрабатываемое оборудование будет состоять из специального оптического устройства, в том числе системы загрузки фотошаблонов, камеры с высокой точностью стабилизации температуры и программного обеспечения. Ключевым элементом системы станет отечественный лазер , работающий на длине волны 193 нм. Отдельно необходимо отметить, что в процессе работы оборудования допускается возможность применения режима двойного или многократного применения фазосдвигающих фотошаблонов», - сообщил Анатолий Ковалев, генеральный директор АО «ЗНЦТ».
Запуск серийного производства фотолитографического оборудования планируется в 2026 году.
